主 講 人：陳寶欽

地　　點(diǎn)：物理與信息工程學(xué)院南樓111報(bào)告廳

主 辦 方：物理與信息工程學(xué)院

開(kāi)始時(shí)間：2017-05-16 10:10

講座介紹：

    題目：微光刻與電子束光刻技術(shù)

    1.微光刻技術(shù)的發(fā)展歷程，光學(xué)光刻技術(shù)，光學(xué)光刻分辨率增強(qiáng)技術(shù)，光學(xué)光刻如何一次又一次突破光刻分辨率極限，達(dá)到亞十納米尺度。

    2.電子束光刻極限在納米CMOS集成電路研制和微納米加工技術(shù)中的應(yīng)用，電子束光刻工藝技術(shù)，電子抗蝕劑工藝技術(shù)，微納加工數(shù)據(jù)處理技術(shù)。

    3.微電子技術(shù)的發(fā)展與展望，中國(guó)集成電路制造業(yè)的發(fā)展，摩爾定律什么時(shí)候失效的問(wèn)題，深化摩爾、拓展摩爾和超越摩爾。

    4.和同學(xué)們交流談?wù)劊鹤鋈艘?，做事要勤奮，做學(xué)問(wèn)要踏實(shí)；做好每一件簡(jiǎn)單的事減少不簡(jiǎn)單，做好每一件平凡的事減少不平凡；低下頭，從腳下最不起眼的路走起！

主講人介紹：

       陳寶欽，博士生導(dǎo)師，中科院微電子研究所研究員，兼職中國(guó)科學(xué)院大學(xué)教授；北京電子學(xué)會(huì)半導(dǎo)體專(zhuān)業(yè)委員會(huì)副主任、制版分會(huì)主任；全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備與材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)副主任、微光刻分委會(huì)秘書(shū)長(zhǎng)；全國(guó)納米技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)微納加工技術(shù)工作組副秘書(shū)長(zhǎng)；中國(guó)科學(xué)院老科技工作者協(xié)會(huì)理事、微電子分會(huì)理事長(zhǎng)、科學(xué)講師團(tuán)成員。多年來(lái)一直從事光掩模與先進(jìn)掩模制造技術(shù)、電子束光刻技術(shù)、微光刻與微納米加工技術(shù)研究和開(kāi)發(fā)工作。在參加和合作開(kāi)展的各項(xiàng)科研活動(dòng)中獲多項(xiàng)科技獎(jiǎng)，分別于1979年至2013年間先后獲國(guó)家科技進(jìn)步獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)兩項(xiàng)和國(guó)家技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)三等獎(jiǎng)一項(xiàng)；航天科工集團(tuán)、北京市和中國(guó)科學(xué)院科技進(jìn)步獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)五項(xiàng)、二等獎(jiǎng)六項(xiàng)；2013-2016年度中國(guó)科學(xué)院教育教學(xué)成果獎(jiǎng)特等獎(jiǎng)。先后為《中國(guó)大百科全書(shū)》撰寫(xiě)“掩模制作技術(shù)”；為《現(xiàn)代高技術(shù)叢書(shū)》撰寫(xiě)“微細(xì)圖形加工技術(shù)”；并參加《世界最新集成電路》大型集成電路工具書(shū)編譯工作，任副主編；策劃并合作編寫(xiě)《高等院校電子技術(shù)教材-TANNER集成電路設(shè)計(jì)教程》；為國(guó)家自然科學(xué)基金委組織科學(xué)出版社出版的《半導(dǎo)體科學(xué)技術(shù)》撰寫(xiě)“微光刻與微納米加工技術(shù)”；為中國(guó)軍事百科全書(shū)撰寫(xiě)“微電子學(xué)與納米電子學(xué)”；為中國(guó)科學(xué)院《高技術(shù)發(fā)展報(bào)告》撰寫(xiě)“集成電路工藝與設(shè)計(jì)技術(shù)最新進(jìn)展”；為《集成電路工業(yè)全書(shū)》撰寫(xiě)“掩模制造設(shè)備”。受?chē)?guó)家技術(shù)監(jiān)督局委托負(fù)責(zé)起草并制定十多項(xiàng)微光刻技術(shù)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。發(fā)表或者合作發(fā)表論文有《中國(guó)光掩模制造與光刻技術(shù)現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)》和《微光刻與微納米加工技術(shù)》等約100篇。